株式会社ATR(エーティーアール)

企業記事

The Next Generation Nanotech

弊社では主に研究者様向けにナノサイズ微粒子を初め、フラーレン・PCBM・カーボンナノチューブ・グラフェン等の最先端材料及び研究機器等を取り扱っております。
ユーザー様は官公庁・大手企業の基礎研究者様に幅広く取り扱って頂いております。
その他、量産を目的とした、新素材グラフェン製膜用熱式CVD装置などの取り扱いも開始致しました。

グラフェン製膜用熱式CVD装置のご紹介





世界初、高品質単層グラフェンシートが大面積で成膜でき、世紀の新素材と言われるグラフェンを使用した様々な適用デバイス開発が可能となるグラフェン成膜装置です。
熱式CVD装置の主な特徴



最大700mm×400mm大面積シート
基板に銅箔を用いた独自のレシピにより、最大700mm×400mm(30インチ)の高品質グラフェンシートを成膜することが出来ます。
均一な単層膜
無欠陥(ラマンスペクトル Dピークがない)グラフェンの膜が成膜できます。その時、95%以上のエリアが単層膜で、残りの5%は2層、3層になります。
独自レシピによる安定成膜
大面積のグラフェン成膜に特化した独自のレシピで、温度・圧力・ガス量をコントロールし、安定した品質のグラフェン膜が得られます。


主要取引先
独立行政法人 産業技術総合研究所様、独立行政法人 物質材料研究機構様
国立大学を初めとする各大学様
The Next Generation Nanotech

検索用タグ:

記事管理ID:34

企業情報

企業属性1
加工技術・製品等
企業属性2
認証・医療分野
主要製品 フラーレン・ナノチューブ・グラフェン・ナノサイズ微粒子
説明 フラーレン誘導体材料・電子機器の販売等
所在地  千葉県松戸市小金原7-10-25 
連絡先 川野 真介
TEL:047-394-2112 FAX:047-394-2100
WEBサイト http://atr-atr.co.jp
創立年月日 18年 9月
資本金 250
代表者 川野 真介
従業員数 6
特記事項

↑

サイト閲覧環境について